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研究用實驗爐高溫馬弗爐

更新時間
2024-11-01 09:00:00
價格
6500元 / 臺
可通氣氛
常用:氮氣、氫氣、氬氣等惰性氣氛
溫控方式
PID程序儀表:主控+超溫報警
加熱速率
0-20℃/min,建議5-10℃/min
聯系手機
13122073935
聯系人
寧華東
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詳細介紹
功率
6000 W
品牌
德耐熱
是否支持加工定制
成新
全新
可通氣氛
氮氣、氬氣、氫氣等惰性氣氛
真空度
機械泵、分子泵、擴散泵
爐膛材質
進口氧化鋁纖維、 莫來石多晶纖維
加熱電壓/控制電壓
380V/220V
控溫儀表精度等級
≤0.25級
加熱元件
電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒
加熱速率
0-20℃/min,建議5-10℃/min
溫控精度
±1℃
溫控方式
pid程序儀表:主控+超溫報警
熱點偶
K,S,B型
冷卻方式
雙殼、風冷、水冷
用途
工業,化工,高校,環保,實驗室
研究用實驗爐高溫馬弗爐


1700 度箱式氣氛電阻爐、真空氣氛退火爐和程控氣氛爐具有以下優勢:
高溫性能卓越:能夠達到 1700 度的高溫,滿足更多特殊材料的處理和實驗需求;例如,一些高熔點的金屬合金或陶瓷材料,需要在這樣的高溫條件下進行熔煉、燒結等工藝,以獲得理想的性能;可以實現對難熔材料的加工和性能優化;為探索新材料和新工藝提供了更高的溫度條件;
氣氛控制:能夠控制爐內的氣氛環境,如氧氣、氮氣、等氣體的含量和比例;比如在金屬材料的退火處理中,通過控制氣氛可以防止氧化,提高材料的表面質量和性能;
配備高精度的氣體流量控制裝置,確保氣氛的穩定性和準確性;實現不同氣氛之間的快速切換,適應多種實驗和生產需求;
真空功能強大:真空氣氛退火爐具備強大的抽真空能力,有效排除爐內的氣體和雜質;這在半導體材料的制備、金屬的真空熔煉等領域具有重要意義,能夠提高材料的純度和性能;降低材料中的氣體含量,減少氣孔和缺陷;為一些對純度要求極高的材料處理提供了理想的環境

實驗室高溫真空氣氛爐在實際當中的運用實驗室高溫真空氣氛爐在科研和工業領域具有廣泛的應用;首先,在材料科學研究中,該設備發揮著不可或缺的作用;通過控制爐內溫度、壓力及氣氛環境,科研人員能夠模擬材料在不同條件下的合成、加工和性能表現,從而揭示材料的內在機制和性能優化途徑;例如,在陶瓷、金屬、高分子等材料的研究中,高溫真空氣氛爐被廣泛用于制備新型材料、優化材料性能以及探索材料在極端環境下的行為;此外,實驗室高溫真空氣氛爐在半導體和新能源領域也具有重要地位;在半導體行業中,該設備可用于制備高質量的硅、鍺等半導體材料,為集成電路的制造提供關鍵原材料;而在新能源領域,高溫真空氣氛爐可用于制備太陽能電池、鋰離子電池等新能源器件的電極材料,從而推動新能源技術的發展和應用;同時,實驗室高溫真空氣氛爐在環境監測和污染治理方面也發揮著積極作用;通過模擬大氣環境中的污染物質在高溫、真空及不同氣氛條件下的轉化和降解過程,科研人員能夠研究污染物的形成機理、遷移轉化規律以及治理技術,為環境保護提供科學依據和技術支持研究用實驗爐高溫馬弗爐研究用實驗爐高溫馬弗爐研究用實驗爐高溫馬弗爐研究用實驗爐高溫馬弗爐



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